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기사입력 : 2026.09.08 17:58
삼성전자가 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML이 이끄는 대형 마스크 컨소시엄(Large Size Mask Consortium)에 공식 참여하여 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다.
이번 컨소시엄은 현재 6인치 크기로 사용 중인 반도체 포토 마스크를 12인치로 전환하는 것을 목표로 하고 있으며, 노광설비 및 포토 마스크 분야의 글로벌 기술 동향을 공유하고 표준을 마련하는 등 협력 연구를 본격화한다.
포토 마스크는 반도체 웨이퍼에 미세 회로 패턴을 전사하는 정밀한 틀로, 노광 공정 중에서 회로의 정밀도와 수율에 직접적인 영향을 미친다.
기존 6인치 마스크는 차세대 High NA EUV(극자외선) 노광장비 도입에 따라 12인치로 확대되면 스티칭(stitching)이라 불리는 패턴 연결의 제약을 해소해 생산성과 가격 경쟁력을 획기적으로 개선할 수 있다.
특히 첨단 반도체 설계에서는 수백억 개 트랜지스터를 정밀하게 배열해야 하는데, 12인치 마스크의 도입으로 High NA EUV 장비의 장점을 최대로 활용하며 더욱 경제적으로 반도체를 생산할 수 있게 된다.
삼성전자는 메모리와 파운드리 두 분야 모두에서 업계를 선도해 온 경험과 풍부한 노광 기술력을 바탕으로, 대형 마스크 컨소시엄 내 중요한 역할을 수행할 예정이다.
아울러 삼성전자는 ASML과 공동으로 2028년까지 첨단 D램 제조에 필요한 High NA EUV 장비 도입 계획도 강화하고 있다.
이를 통해 D램 미세화 로드맵이 연장되고, 공정을 단순화하면서 생산성을 동시에 높이는 혁신적 성과를 이뤄낼 것으로 기대된다.
전영현 삼성전자 대표이사 부회장은 AI 시대는 반도체 산업 패러다임을 바꾸고 있으며, 밸류체인 전반에서 혁신 기술의 중요성이 더욱 커지고 있다며 우리는 ASML과의 견고한 파트너십을 통해 첨단 반도체 제조 영역에서 리더십을 유지하고 Next AI를 준비하는 기술 기반을 탄탄히 다져 나가겠다고 밝혔다.
ASML의 크리스토프 푸케 CEO 역시 삼성전자는 오랜 기간 우리의 핵심 혁신 파트너로서 현대 반도체 기술 발전을 주도해 왔다고 평가하며 AI가 이끄는 미래에 삼성전자와 함께 차세대 반도체 제조 혁신을 계속 만들어 나가길 기대한다고 전했다.
